close
close

用于薄膜处理的部件

定制薄膜特性

在沉积序列期间或者甚至在将蒸发材料镀膜至基底上之后,同样有机会通过离子轰击影响膜层的特性,由此改进其机械或光学性质。布勒莱宝光学提供范围广泛的特有离子源从而满足个别工艺需求,具体取决于镀膜腔体的尺寸。

等离子体源

LEYBOLD OPTICS LION
LEYBOLD OPTICS LION RF 源是基于电子回旋波共振 (ECWR) 原理。该源完全集成至布勒莱宝光学控制系统中,可提供现代工艺运行具备的所有优势。该源利用其简单单一的栅网(网孔)设计实现轻松维护和降低生产成本。LEYBOLD OPTICS LION 300 设计用于大型镀膜系统,SYRUSpro 1350 和 SYRUSpro 1510 与之类似,可实现大批量高膜层质量的生产。

LEYBOLD OPTICS APSpro
LEYBOLD OPTICS APSpro 技术可为光学薄膜行业提供最高的性能和生产力。该技术拥有独特的能力,可在低温无额外加热的条件下实现低指数和高指数材料的免轮换光学薄膜生产。等离子辅助沉积 (PIAD) 工艺主要用于金属氧化物和氮化物等镀膜材料,但也可用于采用纯金属和非金属氧化物的镀膜。

关于布勒莱宝光学

在 2012 年初,Leybold Optics GmbH 成为总部位于瑞士的布勒集团的子公司:莱宝光学业务部,于 2015 年依法更名为 Bühler Alzenau GmbH,在布勒集团内的先进材料事业部下运营。

联系我们

布勒(中国)投资有限公司 江苏省无锡市新区薛典北路71号
邮编:214142
电话:0510-8528 2888
传真:0510-8528 2889
邮箱:buhler.china@buhlergroup.com