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Vakuum-Beschichtungsmaschine NESSY

Vakuum-Beschichtungsmaschine NESSY – Die Sputter-Anlage für EUV-Anwendungen

- Hohes Anwendungspotenzial
- Unerreichte Schichtgleichmäßigkeit
- Perfekte Stöchiometrie-Schichtqualität

Die NESSY Baureihe

Die NESSY Baureihe ist die neuste Generation des Magnetron-Sputtersystems von Bühler Leybold Optics. Sie dient zur Beschichtung von extrem ultravioletten (EUV) Spiegeln unter Ultrahoch-Vakuumbedingungen (UHV) und kann sowohl für die Massenproduktion als auch für Forschung und Entwicklung neuer Produkte eingesetzt werden. Die Beschichtungsmaschinen der NESSY Baureihe können mit bis zu 6 verschiedenen, rechteckigen Sputter-Kathoden ausgerüstet werden. Um die Beschichtung der Spiegel zu realisieren werden Molybdän, Silizium und andere spezielle Materialien verwendet. Durch die Mehrfachbestückung an Kathoden können alle Materialien in einem Zyklus zu einer vollkommenen Schicht vereint werden. Bahnbrechende Anwendungen mit einer Maschine, die bereit ist für die Zukunft
  • Multischichtspiegel aus Molybdän und Silizium mit maximaler Reflexion bei einer Wellenlänge von 13,5 nm haben sich zu einem Klassiker in der Reflexionstechnik entwickelt. Diese Spiegel sind als Kondensator- oder Strahlerspiegel in Lithographie-Anlagen der nächsten Generation unverzichtbar.
  • Zusätzlich zur EUV-Lithographie können Mehrschicht-Interferenzspiegel in Röntgenstrahl-Messeinrichtungen, in der Synchrotron-Strahlungsoptik und in anderen ausgefeilten wissenschaftlichen Anwendungen eingesetzt werden. Die grosse Vielzahl an komplex geformten Substraten macht NESSY zur perfekten Wahl für die Entwicklung neuartiger Anwendungen und Komponenten.

Konstruiert für eine unerreichte Präzision und Gleichmäßigkeit der Schichtstärke

  • Während die Sputter-Quelle und der Aufdampfprozess für eine ausgezeichnete Stabilität sorgen, ist auch eine sorgfältige Steuerung der Substratbewegung von grösster Wichtigkeit. Die Konstruktion des Substratträgers besteht aus einem zweifachen Planetenrad-Rotationssystem. Die direkte Hochgeschwindigkeits-Rotation des Substrats erfolgt in Verbindung mit einer langsamen Drehung in der Kammer mit programmierbaren Geschwindigkeitsprofilen. Dies ermöglicht die perfekte Anpassung an die unterschiedlichen Substratgeometrien der Spiegel
  • Bei Schichtstärken von 7 nm sind die Beschichtungsmaschinen der NESSY Baureihe in der Lage, unerreichte subatomare Gleichmäßigkeitswerte zu erzielen, die in der EUV-Optik für die nächste Photolithographie-Generation erforderlich sind.
  • Der einstellbare Sputter-Abstand bietet die notwendige Flexibilität für unterschiedliche Sub stratstärken.

Ultrahochvakuum sorgt für eine hervorragende Schichtqualität

  • Die hochentwickelte Maschinenkonstruktion und Herstellung der Maschine NESSY ermöglicht einen ultrahohen Vakuumdruck und somit auch eine perfekt stöchiometrische Schichtqualität.