Die NESSY Serie beschichtet Extrem-Ultraviolett-Spiegel (EUV) im Ultrahochvakuum und eignet sich ideal für F&E und Massenfertigung in wissenschaftlichen Einsatzbereichen wie z. B. EUV-Lithografie, Röntgenstrahlmessgeräten und Synchrotron-Strahlenoptik.
Die NESSY Beschichtungsanlage kann mit bis zu sechs verschiedenen rechteckigen Kathoden arbeiten und verwendet Stoffe wie Molybdän und Silicium, die Sie für ein vollständiges Schichtsystem in einem Zyklus benötigen.
Die Beschichtungsanlagen der NESSY Serie erzielen bei Schichtstärken von 7 nm unübertroffene subatomare Gleichmässigkeitswerte, wie sie in der EUV-Optik für die Fotolithografie der Zukunft erforderlich sind.
Mit der NESSY gefertigte hochmoderne Mehrschicht-Interferenzspiegel setzen Massstäbe in wissenschaftlichen Bereichen wie EUV-Lithografie (max. Reflexionsgrad für Mehrschichtspiegel bei 13.5 nm), Röntgenstrahlmessung und Synchrotron-Strahlenoptik.
Das durchdachte Maschinendesign und die Präzisionsfertigung sorgen für den ultrahohen Vakuumdruck, der für eine einwandfreie Stöchiometrie-Schichtqualität benötigt wird.
Sputterquelle und Bedampfungsprozess sind äusserst stabil, und die mechanische Konstruktion der NESSY Serie basiert auf minimierten Toleranzen. Damit schliesst die NESSY die Lücke zur Gleichmässigkeit im subatomaren Wertebereich, wie sie im EUV-Einsatzbereichen und für andere anspruchsvolle Optikanwendungen erforderlich ist.
Der Substrathalter ist mit einem doppelten umlaufenden Rotationssystem ausgerüstet, um die Substratbewegung für höchste Gleichmässigkeit steuern zu können. Die direkte Hochgeschwindigkeitsrotation des Substrats erfolgt bei langsamer Drehung in der Kammer mit programmierbaren Geschwindigkeitsprofilen. So kann die NESSY ein breites Spektrum an Substratgeometrien beschichten.
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