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Die elektrisch einstellbare Target-Neigung und Anpassung des Abstands an die gekrümmten Substrate führt zu einer hervorragenden Gleichmässigkeit der Beschichtung für geschützte und verbesserte Aluminium- oder Silberschichten.
Die untere Kammerhälfte lässt sich über ein Schienensystem aus dem Maschinengestell ziehen, sodass das Substrat von allen Seiten leicht zugänglich ist und sich schnell und unkompliziert wechseln lässt.
Die vier Sputter-Targets der DEIMOS 5500 können mit gepulster DC- oder DC-Sputter-Stromversorgung verwendet werden und liefern die Spitzenqualität, die Sie für die Beschichtung Ihrer astronomischen Spiegel benötigen.
Die elektrisch einstellbare Target-Neigung und Anpassung des Abstands an die gekrümmten Substrate führt zu einer hervorragenden Gleichmässigkeit der Beschichtung für geschützte und verbesserte Aluminium- oder Silberschichten.
Die untere Kammerhälfte lässt sich über ein Schienensystem aus dem Maschinengestell ziehen, sodass das Substrat von allen Seiten leicht zugänglich ist und sich schnell und unkompliziert wechseln lässt.
Die vier Sputter-Targets der DEIMOS 5500 können mit gepulster DC- oder DC-Sputter-Stromversorgung verwendet werden und liefern die Spitzenqualität, die Sie für die Beschichtung Ihrer astronomischen Spiegel benötigen.
Da der Abstand zwischen Target und Substraten über die Gleichmässigkeit der Beschichtung entscheidet, lässt sich jedes Target einzeln verstellen und neigen und so präzise an das gekrümmte Substrat anpassen. Elektroantriebe sorgen für einen ruhigen und zuverlässigen Lauf. Die Einstellungen lassen sich als Fertigungsrezept speichern, damit sich die Qualität konstant reproduzieren lässt.
MF- oder DC-Glimmeinheiten in der Prozesskammer sorgen dafür, dass diese vor dem Start des Sputtervorgangs absolut rein und frei von Feuchtigkeit ist – eine entscheidende Voraussetzung für hochwertige Beschichtungen. Der Reinigungsvorgang lässt sich im Fertigungsrezept speichern.
Angesichts von Substratdurchmessern bis 4.5 m gestaltet sich der Zugang zu Substrat, Targets und sonstigen Prozesselementen in der Kammer bei manchen Technologien oft schwierig. Deshalb läuft bei der DEIMOS 5500 die untere Hälfte der Kammer auf Schienen, sodass die Elemente während Betrieb und Wartung leicht zugänglich sind.
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