用于高精度膜层的溅射设备
HELIOS series
布勒 HELIOS 溅射镀膜机专为满足薄膜制备的高要求而设计。适用于线性激光、深度截止滤光片和陷波滤光片、激光器和啁啾镜、偏振片、分束器、生物传感器和 ADAS 传感器或消费电子产品。
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主要优点
设立新的性能标准
由于理想的氧化物薄层、较高的膜层密度和更低的膜层损耗，HELIOS 实现了卓越的激光镀膜损坏阈值、低散射和高反射率。这为膜层超过 200 层或膜层厚度最高 20µm 的滤光片设立了新的标杆。
为直接光学监控树立标杆
卓越的工艺稳定性实现超高的生产稳定性和无与伦比的可重复性。HELIOS 工具以其优于极薄层的厚度精度而闻名。
创新等离子体辅助反应式磁控溅射 (PARMS) 技术
等离子体辅助反应磁控溅射 (PARMS) 工艺技术确保对原子规模极薄层进行精确控制，为您带来品质卓越的产品和更高产量。
突出特点
PARMS 技术
高精度薄膜
先进的 PARMS（等离子体辅助反应磁控溅射）技术可以通过两个磁控管并结合中频 (MF) 和射频 (RF) 溅射技术，在具有高折射率和低折射率的金属靶材上沉积介电涂层。这使您能通过超高生产率获得尽如人意的优质产品，实现原子级的终极精度。
工件架上光学监控
实现无出其右的可重复性；为您的生产保驾护航。
布勒闻名的现场光学监控系统 LEYBOLD OPTICS OMS 5100 可确保每层镀膜的沉积过程都精确终止。对于较大的膜系和使用自动装料系统时，可以在不破坏真空的情况下更换玻璃样板。这意味着 HELIOS 工具可在不影响产品质量的情况下，长时间无人值守地运转。
从设计到生产
样品制作速度快
您可以将 LMR 和 LPR 文件格式的光学设计迅速传输到生产工具中。该镀膜机可完全与许多各种不同的滤光片设计的生产匹配。有助于新产品快速制作样品，缩短上市时间。
共溅射
中间折射率调整
共溅射可形成任意折射率，理论上可使用高低折射率溅射材料实现。这可提高工具灵活性，快速制作样品或提高产量。
可定制
为您的需求量身定制
定制 HELIOS 真空镀膜机，以满足您对产品、工艺和生产的需求。
关键主题
每天，数以亿计的人们都在享用布勒技术，以满足自己在食品、交通出行以及更多领域的日常所需。我们的座右铭是“布勒创新，驱动未来”。了解有关我们关键主题的更多信息。
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布勒的服务和培训旨在使您及时了解新产品和技术，助您提升信心和积累经验。
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