精密光学真空镀膜
DEIMOS 5500
DEIMOS 真空镀膜系统是一款适用于天文镜面的先进溅射设备，旨在保护和增强铝膜或银膜，以实现膜层的更高的反射率、优良的均匀性和耐久性。
主要优点
镀膜均匀性优良
相对曲面基材，可电动调节靶材的倾斜角度和距离，实现膜层的更高的反射率、优良均匀性和耐久性。
基材更换简单
轨道系统可将腔室的下半部分移出主机机架，方便从各个方向接触基材，更换基材更快捷、更简单。
镀膜反射率高、耐久性好
DEIMOS 5500 的四个溅射靶材与直流脉冲或直流溅射电源，可满足天文镜面镀膜所需的高质量。
突出特点
可移动阴极倾斜
相对基材曲面的更好地适应
由于靶材与基材之间的距离对于均匀的镀膜效果至关重要，因此每个靶材相对基材都可以进行移动并倾斜，完美的匹配基材表面镀膜。电动调节可确保平稳可靠的运行，并在生产中保存设置，确保每次再现更高的质量。
中频或直流辉光放电
对整个工艺腔室进行全面预清洗
工艺腔室内的中频或直流发光放电单元可确保在溅射过程初始化前腔室完全清洁且无水汽，这对高质量镀膜至关重要。您可将此清洁过程保存为生产程序的一部分。
检修性更好
易于操作和维护
由于基材直径最大可达 4.5 m，使用某些技术接触到腔室内的基材、靶材和其他加工组件可能比较困难。DEIMOS 5500 下腔室位于轨道上，方便在运行和维护期间接触到您需要的部件。
关键主题
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