A série NESSY produz revestimentos para espelhos ultravioleta extremo (EUV) sob condições de ultra-alto vácuo (UHV), ideais para pesquisa e desenvolvimento e produção em massa de litografia EUV, dispositivos de medição de raios X, óptica de radiação síncrotron e outras aplicações científicas.
Um projeto de máquina altamente sofisticado e uma fabricação precisa produzem a pressão de vácuo ultra-alta necessária para fornecer qualidade estequiométrica do filme perfeita.
Embora a fonte de pulverização catódica e o processo de deposição proporcionem excelente estabilidade, o projeto mecânico da série NESSY é baseado em tolerâncias minimizadas. Isso permite que a NESSY preencha lacunas até valores de uniformidade subatômica, por exemplo, em EUV e outras aplicações ópticas desafiadoras.
O suporte de substrato possui um sistema planetário de rotação dupla projetado para controlar o movimento do substrato necessário para uma uniformidade altamente precisa. A rotação direta do substrato em alta velocidade funciona em combinação com uma rotação de baixa velocidade ao redor da câmara com perfis de velocidade programáveis. Isso faz com que a NESSY possa revestir uma ampla gama de geometrias de substrato para atender à sua aplicação específica.
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