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Máquina de deposição por sputtering para camadas altamentes precisas

HELIOS series

A máquina de revestimento por pulverização catódica HELIOS da Bühler foi projetada para atender às mais altas demandas de revestimentos de película fina. Ela pode ser usada para filtros de linha de laser, filtros steep-edge e notch, espelhos de laser e dispersivos, divisores de feixe, sensores bio e ADAS ou eletrônicos de consumo.

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Principais benefícios

Definindo novos padrões de desempenho
Devido à oxidação ideal do filme, altas densidades de camada e baixas perdas de camada, a HELIOS atinge valores máximos de limite de dano ao laser, baixa dispersão e alta refletividade. Isso estabelece novos padrões para filtros com mais de 200 camadas ou camadas de até 20 µm de espessura.
Definição da referência para monitoramento óptico no local no substrato
A excelente estabilidade do processo resulta em estabilidade de produção extremamente alta e repetibilidade incomparável. As ferramentas HELIOS são bem conhecidas por sua precisão de espessura até camadas ultrafinas.
Tecnologia PARMS inovadora
A tecnologia de processo de pulverização catódica reativa por magnetron assistida por plasma (PARMS) garante o controle preciso de camadas muito finas em escala atômica, trazendo a você produtos de primeira qualidade e alto rendimento.

Recursos em destaque

Tecnologia PARMS

Filmes altamente precisos

A tecnologia de ponta PARMS (Plasma-Assisted Reactive Magnetron-Sputtering) permite a deposição de revestimentos dielétricos em alvos metálicos com índices de refração altos e baixos, combinando tecnologias de pulverização catódica de média frequência (MF) e radiofrequência (RF) via dois magnetrons. Isso proporciona alta produtividade para produtos de primeira qualidade, com a máxima precisão em escala atômica.

Monitoramento óptico no substrato

Alcançando a mais alta reprodutibilidade; proteja sua produção

Nosso renomado sistema de monitoramento óptico no local LEYBOLD OPTICS OMS 5100 garante a finalização precisa do processo de deposição de cada camada. Para pilhas de camadas maiores e ao usar o sistema de carregamento automatizado, os vidros de teste podem ser trocados sem perda do vácuo. Isso significa que as ferramentas HELIOS possibilitam longas horas de operação autônoma sem comprometer a qualidade do seu produto.

Do projeto à construção

Prototipagem rápida

Você pode transferir rapidamente projetos ópticos para e entre ferramentas de produção. As instalações de revestimento se adequam perfeitamente à produção em uma ampla variedade de designs de filtros. Isso ajuda a confeccionar rapidamente protótipos de novos produtos e a reduzir o tempo de lançamento no mercado.

Com alta flexibilidade de material e alvo, pode-se produzir filtros baseados em materiais de pulverização catódica de alto e baixo índice e aumentar a flexibilidade das ferramentas. Ao usar simultaneamente duas estações de pulverização separadas, a HELIOS pode ajustar com sucesso o índice para um valor intermediário desejado.

Desde diferentes tamanhos e tipos de substrato até diferentes tipos de sistemas de manuseio e uma extensa lista de materiais alvo de pulverização catódica, as possibilidades são infinitas com a HELIOS. Personalize sua instalação de revestimento a vácuo HELIOS para atender às suas necessidades de produto, processo e produção.

Aplicação em semicondutor

Imagem e detecção

Filtros de corte e passa-banda larga coloridos e infravermelho próximo para aplicações como sensores de luz ambiente ou sensores de imagem CMOS. Filtros passa-banda estreita que correspondem ao comprimento de onda do projetor de pontos permitem aplicações em reconhecimento facial.

Óptica em nível de wafer

Desde revestimentos antirreflexo e de alta refletividade até designs complexos de filtros formados diretamente em wafers.

Realidade Aumentada

À medida em que sensores menores são implementados em produtos pessoais, revestimentos de alta precisão e guias de onda estão sendo construídos diretamente em elementos menores.

ADAS e LiDAR

Filtros passa-banda infravermelho próximo e revestimentos antirreflexo para sensores para impedir que a luz ambiente e externa perturbe o sistema de detecção.

Imagem hiperespectral

Filtros passa-banda multicoloridos para adicionar informações químicas ou de estrutura de superfície a imagens digitais.

Aplicações em óptica de precisão

Seleção espectral

Filtros de borda, como filtros passa-curta ou longa, ajudam a selecionar a faixa espectral dos fotoespectrômetros para medições e calibração extremamente precisas. Os filtros passa-banda aumentam a seletividade das aplicações de sensores e restringem a faixa de comprimento de onda de uma fonte de luz de banda larga.

Fotografia/vídeo/observação

Os filtros de corte UV-IV protegem a óptica de lentes sensíveis dentro de uma lente de câmera e melhoram o contraste na faixa de comprimento de onda visual, cancelando a luz UV de alta energia, bem como a poluição luminosa IV. Os filtros de luz solar e lunar aumentam o contraste nas observações feitas com telescópios astronômicos.

Tecnologia de medição óptica

Espelhos dielétricos, polarizadores e divisores de feixe são usados em interferômetros ou bancadas ópticas para manipular o caminho de um feixe de luz para medição precisa das propriedades ópticas de uma amostra. A óptica de espelhos e espelhos semitransparentes mantêm os dispositivos de medição geométrica pequenos o suficiente para serem facilmente manuseados.

Bioimagem e aplicações médicas

Os filtros multi-notch melhoram a qualidade das imagens microscópicas criadas pela microscopia de fluorescência, permitem a quantificação dos componentes celulares e ao mesmo tempo protegem o olho humano da luz UV prejudicial. Filtros de linha e passa-multibanda ajudam na quantificação rápida de marcadores de expressão na tecnologia de análise médica, incluindo o famoso método RT-PCR.

Telecomunicação

A passagem de banda extremamente estreita permite que os sinais de telecomunicação sejam multiplexados e demultiplexados para transmissão de informações complexas em grandes redes através de fibra óptica.

Sistemas de manuseio

Carregador de wafer único

  • Solução simples e econômica para produção de pequenos volumes
  • Carregamento semiautomático de suportes de substrato individuais
  • Ocupa pouco espaço

Carregador de cassete único

  • Solução para produção de volumes médios
  • Carregamento automático de um lote completo de suportes de substrato

Carregador de vários cassetes

  • Solução para produção de grandes volumes
  • Três bloqueios de carga para operação contínua
  • Armazenamento de vários vidros de teste para filtros desafiadores
  • Otimizado para operação remota
  • Conceito semelhante para HELIOS 800 e HELIOS 1200

Carregador direto de wafer

  • Solução de grande volume com interação reduzida entre operador e wafer
  • Carregamento direto de cassetes de wafer padrão
  • Sem pré-fixação manual de wafers em anéis
  • Redução da contagem de partículas

Carregador direto de SMIF pods

  • Solução totalmente automatizada para produção em grandes volumes
  • Carregamento de wafer de SMIF pods
  • Pronto para carregamento de wafer de robôs AGV ou OHT (integração E84)

Carregador direto HELIOS 1200 FOUP

  • Solução totalmente automatizada para produção em grandes volumes
  • Carregador de wafer de FOUPs
  • Integração com módulo front-end do equipamento
  • Equipado com flipper e alinhador de wafer

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