A série NESSY produz revestimentos para espelhos ultravioleta extremo (EUV) sob condições de ultra-alto vácuo (UHV), ideais para pesquisa e desenvolvimento e produção em massa de litografia EUV, dispositivos de medição de raios X, óptica de radiação síncrotron e outras aplicações científicas.
A máquina de revestimento NESSY pode ter até seis cátodos retangulares diferentes e usar molibdênio, silício e outros materiais necessários para obter uma pilha de revestimento completa em um ciclo.
Para espessuras de camada de período de 7 nm, as máquinas de revestimento NESSY podem ajudá-lo a obter valores de uniformidade subatômica incomparáveis, necessários na óptica EUV para fotolitografia de próxima geração.
Os espelhos de interferência multicamadas feitos em equipamentos NESSY são soluções de última geração que moldam a litografia EUV (espelhos multicamadas com refletância máxima de 13,5 nm), dispositivos de medição de raios X, óptica de radiação síncrotron e outras aplicações científicas.
Um projeto de máquina altamente sofisticado e uma fabricação precisa produzem a pressão de vácuo ultra-alta necessária para fornecer qualidade estequiométrica do filme perfeita.
Embora a fonte de pulverização catódica e o processo de deposição proporcionem excelente estabilidade, o projeto mecânico da série NESSY é baseado em tolerâncias minimizadas. Isso permite que a NESSY preencha lacunas até valores de uniformidade subatômica, por exemplo, em EUV e outras aplicações ópticas desafiadoras.
O suporte de substrato possui um sistema planetário de rotação dupla projetado para controlar o movimento do substrato necessário para uma uniformidade altamente precisa. A rotação direta do substrato em alta velocidade funciona em combinação com uma rotação de baixa velocidade ao redor da câmara com perfis de velocidade programáveis. Isso faz com que a NESSY possa revestir uma ampla gama de geometrias de substrato para atender à sua aplicação específica.
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