La serie NESSY ofrece recubrimientos para espejos de ultravioleta extremo (EUV) en condiciones de ultra alto vacío ideales para I+D y producción en masa de litografía de EUV, equipos de medición de rayos X, óptica de radiación de sincrotrón y otros usos científicos.
El diseño de máquina altamente sofisticado y la fabricación de precisión producen la presión de ultra alto vacío necesaria para proporcionar una calidad de película estequiométrica perfecta.
Si bien la fuente de sputtering y el proceso de deposición proporcionan una estabilidad excelente, el diseño mecánico de la serie NESSY se basa en unas tolerancias mínimas. Esto permite acercar posiciones con respecto a los valores de uniformidad subatómica necesarios, por ejemplo, en EUV y otras aplicaciones de óptica con un gran nivel de exigencia.
El retenedor de sustrato posee un sistema de rotación planetaria doble para administrar el movimiento del sustrato y obtener una uniformidad precisa. La rotación directa del sustrato a alta velocidad funciona con una rotación a baja velocidad en torno a la cámara y perfiles de velocidad programables. Esto permite cubrir una amplia gama de formas del sustrato y adaptarlo a todo tipo de usos.
Miles de millones de personas están en contacto cada día con la tecnología de Bühler, para así cubrir sus necesidades básicas de alimentos y movilidad. Nuestro lema es crear «innovaciones para un mundo mejor». Más información sobre nuestros temas clave.
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