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Máquina de deposición al vacío para óptica de precisión

Serie Nessy

La serie Nessy ofrece recubrimientos para espejos de ultravioleta extremo (EUV) en condiciones de ultra alto vacío ideales para I+D y producción en masa de litografía de EUV, equipos de medición de rayos X, óptica de radiación de sincrotrón y otros usos científicos.

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Ventajas clave

Tecnología de vanguardia

Los espejos de interferencia multicapa fabricados en equipos Nessy son soluciones para la litografía de EUV (espejos multicapa con una reflectancia máxima de 13,5 nm), equipos de medición de rayos X y óptica de radiación de sincrotrón, entre otros.

Adecuado para numerosos materiales

La máquina de recubrimiento Nessy puede contar con hasta seis cátodos de sputtering rectangulares y emplea molibdeno, silicio y otros materiales necesarios para obtener una pila de recubrimiento completa en un solo ciclo.

Calidad de película sin defectos

Con unos espesores de capa de 7 nm, las máquinas de recubrimiento Nessy contribuyen a obtener unos valores de uniformidad subatómica inigualables, necesarios en la óptica de EUV para la fotolitografía de la próxima generación.

Características destacadas

Presión base de UHV < 9*10-9 mbar

La presión de ultra alto vacío proporciona una calidad de película óptima

El diseño de máquina altamente sofisticado y la fabricación de precisión producen la presión de ultra alto vacío necesaria para proporcionar una calidad de película estequiométrica perfecta.

Precisión de la capa estadística en rango subatómico

Un espesor, una precisión y una uniformidad inigualables

Si bien la fuente de sputtering y el proceso de deposición proporcionan una estabilidad excelente, el diseño mecánico de la serie Nessy se basa en unas tolerancias mínimas. Esto permite acercar posiciones con respecto a los valores de uniformidad subatómica necesarios, por ejemplo, en EUV y otras aplicaciones de óptica con un gran nivel de exigencia.

Distancia de sputtering ajustable

Diseñada para satisfacer los requisitos de los productos más exigentes

El retenedor de sustrato posee un sistema de rotación planetaria doble para administrar el movimiento del sustrato y obtener una uniformidad precisa. La rotación directa del sustrato a alta velocidad funciona con una rotación a baja velocidad en torno a la cámara y perfiles de velocidad programables. Esto permite cubrir una amplia gama de formas del sustrato y adaptarlo a todo tipo de usos.

Temas clave

Miles de millones de personas están en contacto cada día con la tecnología de Bühler, para así cubrir sus necesidades básicas de alimentos y movilidad. Nuestro lema es crear «innovaciones para un mundo mejor». Más información sobre nuestros temas clave.

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