El sistema de sputtering reactivo de magnetrón simple STARpro cubre una amplia gama de aplicaciones mediante el uso de sistemas de capas de Si3N4 y SiO2. Compacto y fácil de instalar, ideal para la producción de lotes pequeños de filtros ópticos, prototipos rápidos e I+D.
Gracias a su diseño supercompacto, el tiempo de evacuación rápido para procesar la presión y la capacidad de carga de solo cuatro sustratos, STARpro está diseñado para producir lotes pequeños, crear prototipos rápidamente y diseñar actividades de I+D.
Al combinarla con el sistema de medición óptica in situ integrado OMS 5100, toda la máquina está diseñada para ofrecer una precisión ininterrumpida y una alta reproducibilidad durante toda la vida útil del target.
Al usar botellas pequeñas de gas de proceso dentro del bastidor de máquina, solo tiene que conectar el suministro eléctrico y el aire comprimido para iniciar la producción. La interfaz de la pantalla táctil hace que la operación sea igualmente sencilla.
La cámara por esclusa separada mantiene la cámara de procesamiento en condiciones de vacío, sin partículas ni humedad. Esta solo se evacua cuando se han insertado los sustratos, mientras que la válvula de compuerta entre la estación de carga y la de procesamiento solo se abre con poca o nada de presión diferencial, lo que mantiene el nivel de partículas del área de procesamiento al mínimo.
El área de recubrimiento ha sido diseñada para que las distancias entre el target y los sustratos puedan ajustarse con precisión mediante un sistema de accionamiento eléctrico. A medida que se acentúa el perfil de erosión durante la vida útil del target, la uniformidad del recubrimiento se mantiene acortando la distancia. Esto permite mantener una alta calidad del producto mientras dure el target.
STARpro mejora la uniformidad del recubrimiento al mantener el giro del sustrato en un sistema planetario mientras se procesa bajo la fuente, lo que da lugar a unas características de recubrimiento de primera calidad.
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